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TU Berlin

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Labore

Die Reinsträume des Zentrums für Nanophotonik

 

Umkleide

 

Vor dem Betreten der Reinsträume muss spezielle Kleidung angelegt werden. Dies verhindert die Kontamination des Labors durch Staub, Hautschuppen, etc.

 

 

Trockenchemie, Elektronen-Mikroskopie & -Lithographie, Metallisierung

 

In den Räumen der Reinheitsklasse ISO6 sind Anlagen zur trockenchemischen Mikrostrukturierung der Fa. Sentech (incl. ICP-Anlage mit Chlor), Rasterelektronen-Mikroskopie der Fa. Zeiss & Elektronenstrahl-Lithographie der Fa. Raith, sowie Metallisierung mit Heizer und Elektronenstrahl untergebracht.

 

 

Nasschemie, Entwicklung, optische und UV-Mikroskopie, Profilometer

 

In den Räumen der Reinheitsklasse ISO5 sind die Nasschemie- und die Entwicklerbank für die Kontaktlithographieprozesse untergebracht. Mit einem Mikroskop der Fa. Leica und einem Profilometer können die Lack-Prozesse überwacht werden. Unser Digestorium erlaubt die gefahrlose Anwendung von toxische und korrosive Chemikalien z.B Fluss-Säure.

 

 

Kontaktlithographie

 

In den Räumen der Reinheitsklasse ISO4 ist die Kontaktlithographie untergebracht. Mit einem Masken-Aligner (MA6) der Fa. Süss und mehreren Lackschleudern und Stickstoffgespülten Heitzplatten können höchstaufgelöste Lithographieprozesse durchgeführt werden.

 

 

Die Hochfrequenz-Labore

 

Kleinsignal und Großsignal-Charakterisierung von VCSELn

 

In unseren Hochfrequenzlaboren können die dynamischen Eigenschaften von optoelektronischen Bauteilen, z.B. VCSEL, bis 40 GHz und 55 Gbps charakterisiert werden.

 

 

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